Obtención de capas finas de silicio amorfo hidrogenado a partir de un plasma rf de silano para aplicaciones electrónicas
| Título | Obtención de capas finas de silicio amorfo hidrogenado a partir de un plasma rf de silano para aplicaciones electrónicas ;José Luis Andújar Bella ; |
| Lugar de publicación | Barcelona |
| Editorial | Publicacions Universitat de Barcelona |
| Fecha de publicación | 1991 |
| Descripción física o extensión | 1 microficha (323 fotogramas) |
| Otras características físicas | negativo, il., gráf. |
| Dimensiones | 11x15 cm |
| Material de acompañamiento | 1 v. (9 p.) |
| Depósito Legal | B 36766-1991 |
| Tipo de material | [Microforma] |
| ISBN | 84-7875-240-4 |
| Nota |
Bibliografía Reducción alta Precede al tít.: Universidad de Barcelona, Departamento de Física Aplicada y Electónica |
| Número en la serie | n. 979 |
| Nota | Tesis--Universidad de Barcelona |
Ejemplares disponibles 
| Signatura | XL/1628 |
| Localización | Ejemplar de conservación |
| Sede | Sede de Alcalá |
| Signatura | X/1663 |
| Localización | Salón General-Petición anticipada |
| Sede | Sede de Alcalá |
| Signatura | AHX/270 |
| Localización | Salón General-Petición anticipada |
| Sede | Sede de Alcalá |
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Tipo
Libro
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