Láminas delgadas de silicio amorfo hidrogenado obtenidas mediante depósito plasma de corriente continua a baja presión
Título | Láminas delgadas de silicio amorfo hidrogenado obtenidas mediante depósito plasma de corriente continua a baja presión ;por Juan Carlos Delgado Nieto ; |
Lugar de publicación | Barcelona |
Editorial | Publicacions Universitat de Barcelona |
Fecha de publicación | 1990 |
Descripción física o extensión | 1 microficha |
Otras características físicas | negativo, il., gráf. |
Dimensiones | 11x15 cm |
Material de acompañamiento | 1 v. (9 p.) |
Depósito Legal | B 22858-1990 |
Tipo de material | [Microforma] |
ISBN | 84-7528-887-1 |
Nota |
Reducción alta Bibliografía |
Número en la serie | 657 |
Nota | TesisUniversidad de Barcelona |
Ejemplares disponibles
Signatura | X/288 |
Localización | Salón General-Petición anticipada |
Sede | Sede de Alcalá |
Signatura | XL/387 |
Localización | Ejemplar de conservación |
Sede | Sede de Alcalá |
Signatura | AHX/9512 |
Localización | Salón General-Petición anticipada |
Sede | Sede de Alcalá |
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Tipo
Libro
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